,完全是赵玄自己开发的技术,而且碳纳米材料不像硅片。
要反复循环数百至数千道前道工艺,包括氧化、掩膜、光刻、清洗、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等,在其的表面构建数亿乃至几十亿的晶体管结构。
赵玄则采用聚合物分散提纯技术,在4英寸基底上制备出密度为120/μm、半导体纯度高达%、直径分布在±nm的碳管阵列。
至于eda软件,使用初级制造台操作系统芯片生产模块就可以,其他所需硬件设备,都可以由纳米数控机床生产。
在生产硅芯片时所需的光刻胶,在离子光刻机上则根本不需要,极大的降低生产成本以及束缚。
生产工序也得到极大的精简,科技的魅力就在于将复杂的事情变简单,而不是把简单的事情变复杂。
像初级制造台,一台设备便能完成从原料到芯片的全流程生产,这才是科技提升的意义。
“这还只是第一步,芯片生产良品率才是技术能否普及的关键。”
虽然赵玄嘴上这么说,但他可清楚,由初级制造台改衍生而来的离子光刻机,最大的优点就是生产精度,良品率绝对比asml公司的极紫外光芯片强。
而这人力在离子光刻机面前的作业则被进一步降低,这就解决了生产线扩张时的难题,生产线进行设备复制就好,不像以前还得需要海量人才一条一条的调试。
“这样一条高端芯片生产线,每一个步骤都可以申请专利,尤其是芯片架构,赵总,你有给芯片架构起个名字吗?”
“名字,就叫鸿鹄架构吧。”
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